日本HEPHAIST  HW系列UVW平台,三个执行机构首次搭载滚珠丝杠+楔形减速机构,除此之外,平台内部组装有直线导轨导向及交叉滚子直线导轨导向,实现平台行走的高分辨率、高追随性、高精度、高刚性。

 

特长:

微量移动的高追随性(50nm进给量的最随性实测值)

 

高刚性

1/4楔形比结构,侧向负载能力更有优势。

与现有产品NAF3C系列相比,侧向负载的刚性提高1.5至2倍。

 

高定位精度

采用楔形式减速机构,实现高分辨率。

楔形进给机构,减小丝杠的进给不稳定性。

采用交叉滚子直线导轨导向,抑制行走振动减衰性。

 

用途案例:

半导体、FPD检查装置、光学检测机构、激光干涉分析仪、纳米微进给装置。


製品仕様超精密XYθアライメントステージ超精密一軸ステージ
項目NAFHW3C-16NAFHW1D-100
ストロークXY軸:±1.4mm θ軸:±1.4°±3mm
テーブルサイズ160mm×160mm100mm×100mm
ベースサイズ250mm×250mm143mm×80mm
(モータ飛び出し除く)
高さ61mm52.5mm
位置決め精度
※1
XY軸:3μm θ軸:12sec3μm
繰り返しXY軸:±0.35μm θ軸:±1.5sec±0.25μm
ロストXY軸:0.70μm θ軸:3sec0.5μm
追従性
※2
50nm50nm
静止時負荷
※3
600N100N
移動時負荷
※3
300N100N
最高速度1mm/sec1mm/sec
平行度30μm
モータステッピング:PK525PA(オリエンタルモータ製) 
サーボ:HG-AK0236(三菱電機製)
ドライバステッピング:MC-S0514-3L(マイクロステップ製)
サーボ:MR-J4-03A6(三菱電機製)
材質鉄 ー 黒クロム
質量約10kg約1.5Kg
潤滑剤低発塵グリス

※1:弊社からの補正値を入れた場合の精度となります。
※2:分解能0.01μm/pulse設定時となります。
※3:垂直等分布の負荷容量となります。

日本HEPHAIST 2021年新品-超精密UVW平台HW系列

2021/5/19 14:35:00

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